集成电路的线宽通常可理解为所加工的电路图形中最小线条宽度，但在MOS电路中，人们也常用栅极长度来定义线宽。集成度与线宽有对应关系，即集成度越高，线宽越小，所以，线宽也常用来表示集成电路制造技术水平的高低。
随着大规模集成电路和超大规模集成电路的发展，人们对光刻分辨率的要求愈来愈高。1995年为0.35μm，1998年为0.18μm，现在努力的方向是0.18μm，接着就是0.13μm。很显然原有的光刻工艺已不能满足要求，
一个系统的集成度，是指由系统整体所划分出的子系统的规模与复合程度。
集成度越高，计算简单，包含的信息量越少；集成度越低，系统分析计算的模型越复杂，包含的内容也越多，分析更彻底。通常根据需要来选取适当的集成度。